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    納米級高精度白光干涉測量儀

    簡要描述:SuperViewW納米級高精度白光干涉測量儀用于對各種精密器件及材料表面進行亞納米級測量。廣泛應用于半導體制造及封裝工藝檢測、3C電子玻璃屏及其精密配件、光學加工、微納材料及制造、汽車零部件、MEMS器件等超精密加工行業及航空航天、科研院所等領域中。

    • 廠商性質:生產廠家
    • 更新時間:2025-03-09
    • 訪  問  量:1453

    詳細介紹

    品牌中圖儀器產地國產
    加工定制

    SuperViewW納米級高精度白光干涉測量儀用于對各種精密器件及材料表面進行亞納米級測量。它基于白光干涉原理,以3D非接觸方式,測量分析樣品表面形貌的關鍵參數和尺寸,結果組成:

    1、三維表面結構:粗糙度,波紋度,表面結構,缺陷分析,晶粒分析等;

    2、二維圖像分析:距離,半徑,斜坡,格子圖,輪廓線等;

    3、表界面測量:透明表面形貌,薄膜厚度,透明薄膜下的表面;

    4、薄膜和厚膜的臺階高度測量;

    5、劃痕形貌,摩擦磨損深度、寬度和體積定量測量;

    6、微電子表面分析和MEMS表征。

    納米級高精度白光干涉測量儀


    SuperViewW納米級高精度白光干涉測量儀廣泛應用于半導體制造及封裝工藝檢測、3C電子玻璃屏及其精密配件、光學加工、微納材料及制造、汽車零部件、MEMS器件等超精密加工行業及航空航天、科研院所等領域中。


    產品功能

    (1)設備提供表征微觀形貌的粗糙度和臺階高、角度等輪廓尺寸測量功能;

    (2)測量中提供自動對焦、自動找條紋、自動調亮度等自動化輔助功能;

    (3)測量中提供自動拼接測量、定位自動多區域測量功能;

    (4)分析中提供校平、圖像修描、去噪和濾波、區域提取等四大模塊的數據處理功能;

    (5)分析中提供粗糙度分析、幾何輪廓分析、結構分析、頻率分析、功能分析等五大分析功能;

    (6)分析中同時提供一鍵分析和多文件分析等輔助分析功能。

    納米級高精度白光干涉測量儀

    應用領域

    對各種產品、部件和材料表面的平面度、粗糙度、波紋度、面形輪廓、表面缺陷、磨損情況、腐蝕情況、孔隙間隙、臺階高度、彎曲變形情況、加工情況等表面形貌特征進行測量和分析。

    應用范例:

    納米級高精度白光干涉測量儀


    SuperViewW白光干涉儀具有測量精度高、操作便捷、功能齊全、測量參數涵蓋面廣的優點,測量單個精細器件的過程用時短,確保了高款率檢測。特殊光源模式,可以廣泛適用于從光滑到粗糙等各種精細器件表面的測量。


    性能特色

    1、高精度、高重復性

    1)采用光學干涉技術、精密Z向掃描模塊和3D重建算法組成測量系統,保證測量精度高;

    2)隔振系統,能夠有效隔離頻率2Hz以上絕大部分振動,消除地面振動噪聲和空氣中聲波振動噪聲,保障儀器在大部分的生產車間環境中能穩定使用,獲得高測量重復性;

    2、環境噪聲檢測功能

    具備的環境噪聲檢測模塊能夠定量評估出外界環境對儀器掃描軸的震動干擾,在設備調試、日常監測、故障排查中能夠提供定量的環境噪聲數據作為支撐。

    3、精密操縱手柄

    集成X、Y、Z三個方向位移調整功能的操縱手柄,可快速完成載物臺平移、Z向聚焦、找條紋等測量前工作。

    4、雙重防撞保護措施

    在初級的軟件ZSTOP設置Z向位移下限位進行防撞保護外,另在Z軸上設計有機械電子傳感器,當鏡頭觸碰到樣品表面時,儀器自動進入緊急停止狀態,限度的保護儀器,降低人為操作風險。

    5、雙通道氣浮隔振系統

    既可以接入客戶現場的穩定氣源也可以接入標配空壓機,在無外接氣源的條件下也可穩定工作。


    應用案例

    納米級高精度白光干涉測量儀


    部分技術指標

    型號

    W1

    光源白光LED
    影像系統1024×1024
    干涉物鏡

    標配:10×

    選配:2.5×、5×、20×、50×、100×

    光學ZOOM

    標配:0.5×

    選配:0.375×、0.75×、1×

    標準視場0.98×0.98㎜(10×物鏡,光學ZOOM 0.5×)


    XY位移平臺

    尺寸
    320×200㎜
    移動范圍140×100㎜
    負載10kg
    控制方式電動
    Z軸聚焦行程100㎜
    控制方式電動
    臺階測量
    可測樣品反射率0.05%~100
    主機尺寸700×606×920㎜
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